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國望光學研發(fā)生產(chǎn)基地位于北京經(jīng)濟技術開發(fā)區(qū)，規(guī)劃建筑面積12萬平方米，預計2023年投入運行后，將擁有350/280nm節(jié)點、90/110nm節(jié)點、28nm及以下節(jié)點極大規(guī)模IC制造投影光刻機曝光光學系統(tǒng)產(chǎn)品的研發(fā)、設計與批量生產(chǎn)供貨能力。國望光學基本定位是建立我國自主的超精密光學產(chǎn)業(yè)技術研發(fā)與生產(chǎn)體系，形成極大規(guī)模IC制造投影光刻機曝光光學系統(tǒng)、高端精密光學儀器與裝備的批量生產(chǎn)供貨能力，從根本上解決我國IC制造投影光刻機曝光光學系統(tǒng)及高端精密光學裝備的產(chǎn)業(yè)化問題。